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物理l气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀。
真空蒸镀:在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。
溅射:溅射是利用高速正离子轰击某一靶材(阴极),塑料反光灯报价,使靶材表面原子以一定能量逸出,塑料反光灯,后在工件表面沉积的过程。
离子镀:离子镀借助于一种惰性气体的辉光放电使欲镀金属或合金蒸发离子化,并在这些荷能离子轰击基体(工件)表面并同时沉积在其上形成镀膜。







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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
辉光清洗:对工件施加负偏压,产生辉光放电,利用ya离子轰击工件表面,这种辉光放电清洗作用比较柔和,一般采取由弱到强的轰击清洗顺序,是怕工件太脏时一开始就强轰击,可能产生---的打火而损伤工件。
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烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,塑料反光灯,这是---膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近---棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。
离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。
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