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真空镀膜之多弧离子镀 ：

电弧电流一般为几安至几百安，工作电压为10-25v，led灯灯注塑镀膜价格，这时阴极表面的全部电流集中在一个或多个很小的部位 ， 形成明亮的阴极弧斑 ， 阴极弧斑的直径为0.01-100um， 并以---100m/s的速度在阴极靶表面随机运动 ， 也可以利用磁场控制阴极弧斑的运动。在阴极弧斑的前方是高密度的金属等离子体， 由于电子向阳极快速移动而使阴极斑点前方出现离子堆积即形成正空间电荷 ， 从而在阴极附近形成极强的电场， 导致场电子发射以维持弧光放电。

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

占空比：占空比是指脉冲偏压的通断时间比，占空比越大，同一个周期时间内偏压输出时间越长，增大占空比可以提高离子轰击的能量，有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度，但会提高工件的温升；减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。

真空度：真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度，用压强表示，压强越低，其稀薄程度越大，真空度越高。镀膜过程中，真空度主要通过控制ya气流量来改变。