磁控溅射:
原理:磁控溅射法被认为是镀膜技术中成熟的zn0:a1薄膜制备方法,车灯反光灯,通常分为直流溅射(dc)和射频溅射(ic)两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材,使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。
优点:以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到---,磁控溅射法可获得高度c轴取向,表面平整度高,可见光透过率较高及低电阻率zn0:a1的薄膜。





反应溅射就是在反应气体环境中镀膜,溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。反应溅射一般沉积不导电的膜层,例如:snox,znox,siox,sinx等。在反应溅射系统中,一般都加入ar加速反应速度,即提高溅射速率。在反应溅射气氛中,加入工作气体越多,溅射速率越高,当加入的工作气体过多时,反应气体来不急将所有溅射出来的原子反应掉,膜层内就会含有金属,我们把这种状态叫翻转。在反应溅射过程中,无论翻转与正常状态,靶的溅射速率都没有不反应溅射速率高。
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镀膜玻璃常见外观缺陷
1。划伤(scr---hes):镀膜玻璃表面各种线状的划痕。可见程度取决于它们的长度、宽度、位置和分布。主要是由于镀膜玻璃表面和其它物体摩擦造成的。
2。暗道(dark stripe):从镀膜玻璃的反射方向看,膜层表面亮度或反射色异于整体的条状区域,可见程度取决于它们和周围膜层的亮度差。

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