1、真空镀膜的方法材料:
(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内,加工高反射反光杯,保持压强约1.33~13.3pa,然后将阴极接上2000v的直流电源,便激发辉光放电,带正电的ya离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。






真空镀膜镀层并非完全不导电,不导电是利用了分子在薄膜状态下的不连续性
金属或金属化合物都具有导电性,只是导电率不同。但是,当金属或金属化合物呈一种薄膜的状态时,其相应的物理特性会有所不同。
常规的镀膜材料中,如:银是银白效果和导电性能zui好的金属,但它厚度在5纳米以下时,它是不导电的;铝的银白效果和导电性比银稍微差一些,高反射反光杯价格,但它厚度在0.9纳米时,就已经具备导电性。

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