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常见的溅射有两种:不反应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体,一般使用y气(ar),称为工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上,导电性能越好的材料,溅射速率越高。






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镀膜工艺
镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法,镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。下面说一下阴极真空磁控溅射法,通过磁控溅射,在浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。通过镀膜可以改变基片的某些属性,如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。

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真空镀膜之多弧离子镀 :该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快, 入射粒子能量高,沉积膜的和附着性能好。可蒸发各种导电材料,金属或合金,中山电筒反光杯, 成份不受---。能进行反应镀膜,缺点是易于产生液滴,组织不致密。
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